Описание темы работы, актуальности, целей, задач, новизны, тем, содержашихся внутри работы.

Описание основных принципов и механизмов ионного (катодного) распыления материалов для получения тонких пленок. Рассмотрение процесса эмиссии атомов с поверхности твердого тела при бомбардировке частицами.

Обзор технологии ионно-лучевого распыления (IBSD) и ее применение для контроля толщины и скорости роста пленки. Исследование метода формирования тонких пленок с использованием ионного луча.

Изучение оптического контроля пленки Apex как способа контроля толщины и скорости роста пленки при ионном (катодном) распылении. Анализ применения данного метода в промышленности.

Обсуждение метода ионного напыления (ion-assisted deposition) и его роль в процессе образования тонких пленок. Исследование влияния ионов на структуру и свойства пленок.

Анализ преимуществ и недостатков технологии ионного распыления для формирования тонких пленок. Рассмотрение эффективности и возможных ограничений данного метода.

Исследование областей применения ионного (катодного) распыления в промышленности. Рассмотрение примеров успешного использования технологии для производства различных изделий.

Роль и значение ионного распыления в области нанотехнологий. Анализ влияния данной технологии на создание наноструктур и наноматериалов.

Исследование применения ионного распыления в электронике. Рассмотрение влияния технологии на производство электронных компонентов и устройств.

Анализ современных тенденций развития технологий ионного распыления. Рассмотрение новых методов и подходов к улучшению процесса формирования тонких пленок.

Оценка перспектив применения ионного (катодного) распыления в будущем. Рассмотрение возможных направлений развития технологии и ее влияния на промышленность и науку.

Описание результатов работы, выводов.

Список литературы.